发明专利 已授权

自修式液态金属研磨盘及其制备方法

📄 申请号:CN202010294772.6 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2020-04-15
公开号
CN111347355A
公开日
2020-06-30
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体晶圆抛光, 精密光学加工, 精密机械研磨, 表面处理

摘要

本发明公开了自修式液态金属研磨盘及其制备方法,包括旋转驱动底座、研磨盘、直线进给装置、储液槽、抽液泵、抽液管道、喷液管道和喷液喷头,所述研磨盘安装在旋转驱动底座上方,直线进给装置设置在研磨盘的一侧,所述喷液喷头设置在研磨盘的上方,直线进给装置工作时带动喷液喷头沿着研磨盘的一条半径做直线往复运动,抽液泵利用抽液管道将储液槽中的液态金属抛光液抽出,并通过喷液管道送入喷液喷头的喷出,由喷液喷头喷到研磨盘的表面;本发明能够在研磨盘上生成液态金属抛光液固化后的抛光层,制作研磨盘的工艺简单,不会对材料产生浪费,磨损的研磨盘也可以回收再次使用,制作出的研磨盘精度更高。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

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