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发明专利
已授权
一种制备介孔三氧化钨薄膜的电化学方法
📄 申请号:CN201711067628.3
📄 发布日:2026/08/04
著录项目信息
申请日
2017-11-03
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C25D11_26
IPC 分类号
C25D11_26
技术画像
所属领域
电化学制备
电化学制备
薄膜材料
介孔材料
应用场景
光催化, 气体传感器, 电致变色器件, 储能器件, 光电化学器件
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摘要
一种制备介孔三氧化钨薄膜的电化学方法,所述方法为:以经过预处理的金属钨为阳极,钛片或铂片为阴极,在电解液中,于温度为5~40℃、电压为3~15V的条件下进行恒电位阳极氧化1~7h,之后取出金属钨,清洗、干燥后即在金属钨表面制得一层介孔三氧化钨薄膜;本发明可通过控制电解液组分,阳极氧化电压和氧化时间在金属钨表面得到孔径不同的三氧化钨薄膜;所制得的三氧化钨薄膜具有显著的介孔结构,比表面积大,与金属钨基底结合牢固,不易脱落;本发明制备工艺简单、成本低廉、操作简便、效率高,在工业化应用方面具有广阔的应用前景。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20191029
✅ 授权
20180424
?? 实质审查的生效 :
20180330
📄 公开
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