发明专利 已授权

一种制备梯度功能研抛盘的方法及其制备装置

📄 申请号:CN201710010376.4 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2017-01-06
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

精密与超精密加工, 模具抛光, 光学元件加工, 半导体晶圆抛光, 机械零件表面处理

摘要

本发明公开了一种制备梯度功能研抛盘的方法及其制备装置,包括如下步骤:1)对研抛盘的表面进行梯度划分,2)分别配制出最大磨粒体积比和最小磨粒体积比的磨粒混合物;3)分别通过连接第一混合装置和第二混合装置出料口的导流管将物料导入第三混合装置中,4)确定第一个需要制备的梯度区域,通过控制两根导流管上流量阀的开口大小控制第三混合装置中混合料的比例;5)将第三混合装置中的混合料经第三流量控制阀控制后注塑到研抛盘的基体上;完成该梯度区域的制备;6)重复上述过程,直至完成整个研抛盘的制备。本发明制备高效,制备的研抛盘上的弹性模量呈梯度式变化,可以适应各种不同的工件的研磨抛光,提高了加工的效率和加工质量。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20230627
✅ 授权
20170912
?? 实质审查的生效 :
20170818
📄 公开

同领域国内专利 · IPC: (B24D7_14)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:12 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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