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发明专利
已授权
基于相位调制的双激光单频干涉纳米位移测量装置及方法
📄 申请号:CN201610589039.0
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2016-07-22
公开号
CN106017333B
公开日
2019-02-15
申请人
浙江理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
G01B11_02
IPC 分类号
G01B11_02
技术画像
所属领域
测量装置
光学干涉测量
纳米位移测量
相位调制技术
测量装置
应用场景
半导体制造, 精密加工, 微纳制造, 科学仪器, 智能制造
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摘要
本发明公开了一种基于相位调制的双激光单频干涉纳米位移测量装置及方法。单频激光器输出单波长的线偏振光,射向由四个分光镜和两个角锥棱镜构成的双激光单频干涉仪,分别形成测量干涉信号和参考干涉信号,分别由两个光电探测器接收;光路中放置电光相位调制器并施加周期性的锯齿波电压信号,将测量和参考直流干涉信号调制为交流干涉信号;检测被测对象运动引起的两路干涉信号的相位差变化量,得到被测位移。本发明克服了单频干涉仪由于直流漂移引入的误差,避免了对测量干涉信号的直接细分带来的正弦误差或者非正交误差,具有亚纳米级测量精度,适用于高端装备制造与加工领域中的精密位移测量。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20190215
✅ 授权
20161109
?? 实质审查的生效 :
20161012
📄 公开
一种经曲线织物的生产工艺
当前第 / 件
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未申报
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