发明专利 已授权

一种光刻二元谐衍射Alvarez透镜变焦系统的方法

📄 申请号:CN201810842349.8 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2018-07-27
公开号
CN109061781B
公开日
2020-05-26
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光学成像, 激光加工, 精密光学仪器, 光通信, 消费电子

摘要

本发明一种光刻二元谐衍射Alvarez透镜变焦系统的方法,本发明先确定谐衍射Alvarez透镜的面型,接着确定一阶掩模位置并光刻,最后确定高阶掩模位置并光刻,保留了Alvarez透镜组原有的特征,即且第二Alvarez透镜相对于第一Alvarez透镜沿垂直于光轴方向移动,所述Alvarez透镜组的焦距会发生改变,并且相对于衍射光学元件,二元谐衍射Alvarez透镜变焦系统具有高精度高效率的特点;本发明加工工艺简单,精度远比常规光学加工的精度高。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN109061781B

购买这项专利需要经过哪些流程?

平台提供担保交易、全程代办转让手续。买家可委托平台代购,平台协助完成权属尽调、合同签署、国家知识产权局著录项目变更等流程。

该专利的转让价格是多少?

当前标价为议价,可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书 附图

……

……

图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:91 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

资金托管 权属尽调 包过户
🏢 淄博智来知识产权服务有限公司
✓ 企业认证✓ 手机绑定历史成交 2657件好评率 98.5%

📊 出价记录 (3条)
王**¥-10万
李** 企业¥-8万
陈**¥-3万
查看全部出价