实用新型 已授权

一种磨抛装置

📄 申请号:CN202421804475.1 📄 发布日:2026/07/15

著录项目信息

申请日
2024-07-29
公开号
CN222831431U
公开日
2025-05-06
申请人
老河口市瑞宇光学科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

金属表面处理, 精密零件加工, 半导体制造, 光学元件加工, 五金加工

摘要

本实用新型公开了一种磨抛装置,其包括载料机构、抛光机构、压紧机构及第一驱动机构,所述载料机构包括载料台,所述载料台水平设置,所述载料台上用以放置光学透镜;所述抛光机构设置于所述载料台的正上方,其包括多个抛光辊,各个所述抛光辊均沿周向竖直设置于光学透镜的侧方,并与光学透镜的边缘抵接;所述压紧机构用以压紧或者松开光学透镜;所述第一驱动机构与各个所述抛光辊均连接,用于驱动各个所述抛光辊绕着光学透镜的中心轴线转动。本实用新型的有益效果是:本磨抛装置,可以对光学透镜进行定心磨抛,使得光学透镜被抛光前后的圆心不会发生改变,提高了对光学透镜的磨抛精度。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (B24B9_14)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:38 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 已报项目

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