发明专利 已授权

基于双电光频率梳的激光跟踪干涉空间坐标测量系统和方法

📄 申请号:CN202410631580.8 📄 发布日:2026/06/16

著录项目信息

申请日
2024-05-21
公开号
CN118362046B
公开日
2025-12-19
申请人
浙江理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

大尺寸空间坐标测量, 工业机器人标定, 数控机床校准, 智能制造, 航空航天装配测量

摘要

本发明公开了一种基于双电光频率梳的激光跟踪干涉空间坐标测量系统和方法。通过视觉模块进行多靶镜识别,引导转镜将激光分别指向各靶镜。激光跟踪干涉测距模块获得激光光束偏离靶镜中心的跟踪误差,用于闭环跟踪控制;光源模块输出溯源至气体吸收峰的单频激光;通过控制光源调制模块开启或关闭电光相位调制驱动信号,分别输出双电光频率梳与双频连续激光。跟踪状态下,激光跟踪干涉测距模块分别使用这两种光源测得目标靶镜的绝对距离与相对位移,经距离融合计算求得靶镜与原点的实时距离;通过方位角与俯仰角测量模块实时获得靶镜的俯仰角与方位角;经跟踪控制与信号处理模块以及计算机进行跟踪控制与坐标解算,最终测得所有靶镜的三维空间坐标。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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