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发明专利
已授权
衍射场打印系统及光学输出方法
📄 申请号:CN202211171974.7
📄 发布日:2026/06/16
著录项目信息
申请日
2022-09-26
公开号
CN115542702B
公开日
2025-12-19
申请人
浙江理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
G03H1_04
IPC 分类号
G03H1_04
,
G03H1_12
,
G02B27_48
,
G02B27_42
,
G02B27_09
,
技术画像
所属领域
衍射光学
衍射光学
光学系统
增材制造
应用场景
光学制造, 3D打印, 微纳加工, 精密打印, 光场调控
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摘要
本发明涉及衍射场打印系统及光学输出方法,包括光源、照明光学子系统、成像光学子系统、参考光子系统、机械运动子系统和控制子系统,光源发出的光被分束成第一照明光场和第二照明光场;成像光学子系统包括衍射光学器件、空间光调制器和傅里叶变换透镜,空间光调制器位于傅里叶变换透镜的输入面,用于调制数据结构,并在傅里叶变换透镜的输出面上形成衍射场的子波前信息,第一照明光场在傅里叶变换透镜的输入面和输出面上形成限带消散斑及去高斯的光场;参考光子系统包括振镜和接力透镜组,第二照明光场在接力透镜组的输出面上形成参考光光场,该光场形成的光斑与傅里叶变换透镜的输出面或输出面的像面重合。形成的衍射场信噪比高和均匀性强。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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当前第 / 件
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