发明专利已授权

一种可调节表面电场分布的光学器件及其调节方法

📄 申请号：CN201810404996.0 📄 发布日：2026/05/28

著录项目信息

申请日

2018-04-28

公开号

CN108519635B

公开日

2022-01-04

申请人

陕西帆瑞威光电科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G02B5_00

IPC 分类号

G02B5_00

技术画像

所属领域

光学器件光学器件光电子器件电场调控技术

应用场景

光通信, 光学传感, 光学调制, 光子集成, 精密光学系统

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摘要

本发明涉及一种光学器件，具体涉及一种可调节表面电场分布的光学器件及其调节方法，包括基底层和平面结构，平面结构由多个结构相同的纳米周期单元按矩形周期阵列平面连接而成，每个周期单元包括一个结构单元，每个结构单元由一圆形金属块和一环形金属块组合而成，圆形金属块置于环形金属块内腔，圆形金属块圆心与环形金属块圆心不在同一位置，环形金属块由贵金属材料制成，圆形金属块由金属镁制成。该结构可以通过控制圆形金属块材料性质的转化来调节表面电场分布特性。后期使用时只需要根据需要进行吸氢或脱氢作用即可实现对该结构表面电场分布和局域电场共振模式的调节，制备和调节方法简单快捷，易于操作。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种平面绕线线圈无磁采集位移和角速度的方法

当前第 / 件

一种金属表面处理方法

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