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发明专利
已授权
一种棱柱状硫化镍阵列薄膜材料的原位制备方法
📄 申请号:CN201810085248.0
📄 发布日:2026/05/07
著录项目信息
申请日
2018-01-29
公开号
CN108315730A
公开日
2018-07-24
申请人
燕山大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C23C22_60
IPC 分类号
C23C22_60
技术画像
所属领域
纳米材料
纳米材料
薄膜材料
电极材料
应用场景
超级电容器, 电化学储能, 电催化, 电解水制氢, 电化学传感器
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摘要
一种棱柱状硫化镍阵列薄膜材料的原位制备方法,其主要步骤包括:首先,将金属镍基体清洗除尘、除锈、除油以获得清洁的镍表面;然后配制碱性电解液,主要原料为金属碱化合物,辅助原料碱金属硫化物;其次,将电解液放入反应釜中,同时将干净的镍基体浸入电解液中,将反应釜置于马弗炉中在120-250℃进行水热反应10-50小时,使得金属镍表面发生硫化原位生长反应;最后,将水热后的镍基体取出、清洗干净并干燥,即可获得棱柱状硫化镍阵列薄膜材料。本发明制备方法简单、原材料廉价、易于操作、生产价格低,所制备的薄膜材料厚度可控、活性高,适合工业化大生产。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
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