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发明专利
已授权
一种制备薄膜光栅的装置及方法
📄 申请号:CN202110941988.1
📄 发布日:2026/05/07
著录项目信息
申请日
2021-08-17
公开号
CN113640907B
公开日
2022-10-28
申请人
燕山大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
G02B5_18
IPC 分类号
G02B5_18
技术画像
所属领域
光学器件
光学器件
微纳加工
薄膜技术
应用场景
光通信, 光谱分析, 激光器, 光学传感, 显示技术
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摘要
本发明涉及一种制备薄膜光栅的装置及方法,属于光栅制备技术领域,所述装置包括夹持薄膜两端的夹持机构,夹持机构之间固定设置两根限位柱,且限位柱与薄膜的一侧相切,薄膜的另一侧、垂直于薄膜的方向上设置应力施加机构,夹持机构、限位柱和应力施加机构均设置于作业平台上;所述方法为制备薄膜后通过应力施加件对其施加应力,再利用等离子体处理技术对薄膜进行处理后缓慢释放应力,制备得到薄膜光栅。本发明的制备装置结构简单,易于实现,可以一次性将多根薄膜安装在有多个限位槽的薄膜夹具中,采用一个阶梯状应力施加件,实现同时制备多根不同周期和振幅的光栅,适用于大批量制备多周期和振幅薄膜光栅。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
金属粉末烧结与原位挤压一体设备及烧结挤压复合工艺
当前第 / 件
一种高频链互联的无电解电容MMC拓扑结构及控制策略
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覆盖
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📌 交易状态:
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📋 项目申报:
未申报
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