发明专利 已授权

垂直扫描白光干涉谱辅助穆勒矩阵椭偏测量系统及方法

📄 申请号:CN202210374730.2 📄 发布日:2026/05/07

著录项目信息

申请日
2022-04-11
公开号
CN114754705B
公开日
2023-05-05
申请人
华侨大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体薄膜检测, 表面形貌测量, 光学元件检测, 纳米结构测量, 精密制造质量检测

摘要

本发明公开了垂直扫描白光干涉谱辅助穆勒矩阵椭偏测量系统和方法,垂直扫描白光干涉模块既可以辅助穆勒矩阵椭偏仪高精度调平,又可以实现衬底表面粗糙度的纳米级测量。穆勒矩阵椭偏测量模块实现衬底光学特性高精度、快速测量;数据处理模块包括表面形貌参数提取单元和光学特性参数提取单元;表面形貌参数提取单元包括所属垂直扫描白光干涉模块所采集的单帧图像和层析图像;基于单帧图像对样品台进行高精度调平,以保证椭偏测量数据精度,基于层析图像对表面形貌进行恢复和参数提取,提供对应测量点椭偏光学模型中粗糙层的初值,为椭偏参数解耦提供基础。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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