实用新型已授权

一种光刻胶均匀的喷涂装置

📄 申请号：CN202321607419.4 📄 发布日：2026/08/17

著录项目信息

申请日

2023-06-25

公开号

CN219898711U

公开日

2023-10-27

申请人

住晶新材料科技(烟台)有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

B05B13_04

IPC 分类号

B05B13_04 , B05B9_04 , B05B15_68 ,

技术画像

所属领域

其他分类其他

应用场景

集成电路制造, 半导体光刻工艺, 晶圆涂胶, 微纳加工, 平板显示制造

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摘要

本实用新型公开了一种光刻胶均匀的喷涂装置，涉及光刻胶喷涂装置技术领域。本实用新型包括底座，底座上表面固定有支架，支架顶部固定有料箱；料箱一端固定有连接管，连接管一端固定有活动块，连接管表面固定有料泵；所说活动块一侧固定有喷头；活动块内部开有活动槽，活动槽表面开有若干通孔；活动块内部固定有若干伸缩杆，伸缩杆外侧套接有弹簧，伸缩杆一端固定有连接板；连接板一侧固定有连接杆。本实用新型通过活动块的作用，该装置可以将活动块与限位杆之间的滑动摩擦变为滚动摩擦，可以大大的减少活动块在滑动时的摩擦力，同时减少其在加工时的震动，使得在工作过程中喷头更加稳定，以此达到可以均匀的喷涂光刻胶的效果。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种生产高纯度光刻胶的合成器

当前第 / 件

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