发明专利 已授权

原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置及其成型方法

📄 申请号:CN202210623869.6 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2022-06-02
公开号
CN114985195A
公开日
2022-09-02
申请人
潍坊学院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

功能薄膜制备, 基片表面涂覆, 电子基片制造, 陶瓷薄膜制备, 膜分离材料制备

摘要

本发明公开了一种原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置及其成型方法;该装置包括薄膜成型箱,薄膜成型箱内依次形成有基片室、镀膜室和烘干室,还包括基片放置装置、基片镀膜装置、基片烘干装置、基片输送装置以及薄膜成型操控台;基片放置装置设置在所述基片室内用于放置基片;基片镀膜装置设置在所述镀膜室内用于对基片进行镀膜处理;基片烘干装置设置在所述烘干室内用于对基片进行烘干处理;基片输送装置用于携带基片在所述基片室、所述镀膜室、所述烘干室之间水平往复输送;本发明采用湿法制备基片薄膜时的原位烘干,在薄膜成型操控台控制下,实现了设备内无杂质作业,最大程度地减少人为干预带来的不良影响,可有效提高膜层间的吸附力和均匀性。

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