发明专利已授权

双层有序垂直介孔薄膜修饰的金属锂负极及其制备方法和应用

📄 申请号：CN202210917859.3 📄 发布日：2025/11/16

著录项目信息

申请日

2022-08-01

公开号

CN115188923A

公开日

2022-10-14

申请人

武汉工程大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01M4_134

IPC 分类号

H01M4_134 , H01M4_1395 , H01M10_052 , H01M50_403 , H01M50_449 , H01M50_46 ,

技术画像

所属领域

电池材料电池材料介孔材料金属锂负极

应用场景

锂电池, 储能系统, 新能源汽车

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摘要

本发明公开了一种双层有序垂直介孔薄膜修饰的金属锂负极及其制备方法和应用。该双层有序垂直介孔薄膜修饰的金属锂负极，包括依次叠层设置的大孔单层有序垂直介孔薄膜、小孔单层有序垂直介孔薄膜和金属锂层。本发明通过在金属锂层表面依次设置小孔单层有序垂直介孔薄膜和大孔单层有序垂直介孔薄膜，能够对锂负极在充放电过程的锂离子输运行为进行调节，引导均匀的锂沉积，可以有效的抑制锂枝晶的生长，解决现有技术中金属锂沉积中锂枝晶生长的问题，从而使得金属锂负极在使用中的循环稳定性明显增加，安全性大大提高。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

α-Ni(OH)2@S@PANI硫正极复合材料及其制备方法

当前第 / 件

一种掺杂聚吡咯3D集流体及其制备方法和应用

同领域国内专利 · IPC: (H01M4_134)

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：140 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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