发明专利 已授权

一种基于烷基胺插层的MoS2/C复合材料及其制备方法、应用

📄 申请号:CN202410908593.5 📄 发布日:2025/11/16

著录项目信息

申请日
2024-07-08
公开号
CN118851264B
公开日
2025-04-08
申请人
武汉工程大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

储能系统, 电池电极材料, 超级电容器, 电催化制氢, 固体润滑剂

摘要

本发明涉及二次电池储能技术领域,尤其涉及一种基于烷基胺插层的MoS2/C复合材料及其制备方法、应用,所述方法包括,将钼酸盐、硫脲分散在去离子水中,加入盐酸,搅拌后进行第一次水热反应;将第一次水热反应得到样品与盐酸混合后,加入烷基胺化合物,进行第二次水热反应,得到MoS2/C前驱体;将所述MoS2/C前驱体进行烘干、烧结,得到MoS2/C复合材料。采用本发明制备方法制得的复合材料具有稳定、可靠的支撑结构,既防止二硫化钼结构劣变,又可显著提高电子的电导率。在离子和电子之间建立了双连续通道,极大程度上的解决了对高效钠离子存储的需求。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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