发明专利已授权

一种用于干式电解抛光的装置

📄 申请号：CN202111232865.7 📄 发布日：2026/03/16

著录项目信息

申请日

2021-10-22

公开号

CN113755939B

公开日

2025-03-04

申请人

东莞理工学院

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C25F3_16

IPC 分类号

C25F3_16 , C25F7_00 ,

技术画像

所属领域

电化学抛光电化学抛光表面处理电解加工

应用场景

金属表面抛光, 精密机械加工, 医疗器械表面处理, 汽车零部件加工, 五金制品抛光

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摘要

本发明公开了一种用于干式电解抛光的装置，该装置包括动力装置、轨迹运动装置、夹紧装置、阴极介质装置以及机架。其中，动力装置、轨迹运动装置以及阴极介质装置均固定在机架上，动力装置中的偏心轴与轨迹运动装置中的直线轴承固件封口端相连，夹紧装置中的绝缘体与轨迹运动装置中的直线轴承固件开口端相连。工作时，夹紧装置和阴极导电圆筒连通直流电源。该装置通过轨迹运动装置将动力装置的转动转换为夹紧装置的圆周平动，夹紧装置夹住工件在阴极介质装置中运动，使工件能与固体介质充分接触，同时消除了直流电路在在转动运动中的线路布置难题。该装置结构简单、实用，且相较于传统的液式电解抛光绿色环保。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种含氰基修饰四联吡啶钴配合物及其制备方法和应用

当前第 / 件

一种同轴结构的紧凑型微波脉冲压缩色散系统

同领域国内专利 · IPC: (C25F3_16)

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