发明专利 已授权

一种半导体石墨坩埚测温设备及其测温方法

📄 申请号:CN202010669597.4 📄 发布日:2025/11/10

著录项目信息

申请日
2020-07-13
公开号
CN111982319A
公开日
2020-11-24
申请人
大同新成新材料股份有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 晶体生长, 高温炉温度监控, 光伏产业

摘要

本发明公开了一种半导体石墨坩埚测温设备及其测温方法,包括夹紧机构、保护机构、测温机构和底座,所述保护机构固定设置在所述底座内部,所述夹紧机构固定设置在所述底座上端,所述测温机构固定设置在所述夹紧机构下方;本发明还公开了一种半导体石墨坩埚测温设备的测温方法。本发明的有益效果是:本发明设计的下压杆在受到坩埚的挤压后,会向下运动带动移动杆运动,进一步可以带动气压杆移动,从而对气囊进行充气,从而可以对坩埚进行固定和保护,可以适应不同大小的坩埚,本发明设计的第四滑块与第五滑块在转动杆转动时会做相向运动,从而会带动转动圆盘转动,从而可以带动测温管对坩埚内部各个位置进行测温。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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