发明专利 已授权

一种基于抛物线方程升压的大孔间距阳极氧化铝膜及其制备方法和应用

📄 申请号:CN202111501200.1 📄 发布日:2026/09/09

著录项目信息

申请日
2021-12-09
公开号
CN114277419B
公开日
2023-05-23
申请人
广东工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

所属领域

应用场景

纳米模板合成, 过滤分离, 光子晶体, 传感器, 催化载体

摘要

本发明属于材料表面制备技术领域,公开了一种基于抛物线方程升压的大孔间距阳极氧化铝膜及其制备方法和应用。该制备方法按照以下步骤:超声清洗高纯铝箔表面,化学刻蚀去除铝表面致密氧化层;对干净铝箔进行电化学抛光处理,使其表面光滑平整;以所得抛光铝箔为阳极,石墨片为阴极,在电解液中进行阳极氧化,过程中采用基于抛物线方程进行升压,得到带有铝基底的大孔间距阳极氧化铝膜;所得带有铝基底的大孔间距阳极氧化铝膜,置于过饱和氯化铜溶液中刻蚀,去除铝基体,得到大孔间距阳极氧化铝膜;或者置于铬酸与磷酸混合液中刻蚀,去除阳极氧化铝膜,得到带有大孔间距凹坑的铝基体,然后进行二次阳极氧化得到规整有序的大孔间距的阳极氧化铝膜。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

……

……

图1
图2
图3

法律状态时间线

20250722
?? 专利权的转移 :
20230523
✅ 授权
20220422
?? 实质审查的生效 :
20220405
📄 公开

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