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| 专利/申请号： | CN202222425858.5 | 专利名称： | 一种有机清洗机的去胶剂工艺槽 |
| 申请日： | 2022-09-14 | 申请/专利权人 | 华林科纳(江苏)半导体设备有限公司 |
| 专利类型： | 实用新型 | 地址： | 江苏省南通市如皋市城南街道新桃路90号 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | B08B1/00 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2023-02-03 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN218424286U | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 37 | 所属领域： | 有机清洗设备制造 半导体及电子元器件加工辅助装置专利转让搜索 |
应用场景：半导体晶圆表面光刻胶去除;PCB板残留助焊剂清理;精密电子元件生产中的污染物剥离;光伏电池片制程清洁;微电子封装前的基板预处理
摘 要：本实用新型涉及去胶剂工艺槽技术领域，且公开了一种有机清洗机的去胶剂工艺槽，包括槽体，所述槽体的正下方设置有隔离箱，所述隔离箱的内部设置有电动推杆，所述电动推杆的推杆穿过隔离箱的顶部并与体的左下端相连接，所述隔离箱的底部连接有安装块，所述槽体的上端两侧连接有支撑架，所述支撑架的中间处开设有导向开口，所述槽体的中间处开设有凹槽，所述槽体的中间处并位于凹槽的前后两侧均设置有挡板。本实用新型通过设置电动推杆、隔离箱、安装块、支撑架、导向开口、滑块、挡板和刮板，利用它们之间的相互配合作用，从而可以实现对槽体的使用位置进行调节，扩大了使用范围，另外可以对胶剂进行平顺去除，使得去除效果好。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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