实用新型 已授权

一种有机清洗机的去胶剂工艺槽

📄 申请号:CN202222425858.5 📄 发布日:2026/07/14

著录项目信息

申请日
2022-09-14
公开号
CN218424286U
公开日
2023-02-03
申请人
华林科纳(江苏)半导体设备有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 晶圆清洗, 光刻胶去除, 集成电路制造

摘要

本实用新型涉及去胶剂工艺槽技术领域,且公开了一种有机清洗机的去胶剂工艺槽,包括槽体,所述槽体的正下方设置有隔离箱,所述隔离箱的内部设置有电动推杆,所述电动推杆的推杆穿过隔离箱的顶部并与体的左下端相连接,所述隔离箱的底部连接有安装块,所述槽体的上端两侧连接有支撑架,所述支撑架的中间处开设有导向开口,所述槽体的中间处开设有凹槽,所述槽体的中间处并位于凹槽的前后两侧均设置有挡板。本实用新型通过设置电动推杆、隔离箱、安装块、支撑架、导向开口、滑块、挡板和刮板,利用它们之间的相互配合作用,从而可以实现对槽体的使用位置进行调节,扩大了使用范围,另外可以对胶剂进行平顺去除,使得去除效果好。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN218424286U

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该专利的转让价格是多少?

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20230203
✅ 授权

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议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:43 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 已报项目

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