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| 专利/申请号： | CN202411957172.8 | 专利名称： | 一种碳化硅生产工艺 |
| 申请日： | 2024-12-29 | 申请/专利权人 | |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | |
| 专利状态： | 授权未缴费 查询审查信息 | IPC分类号： | C01B32/984 分类检索 |
| 公开/公告日： | 转让价格： | 【平台担保交易】 | |
| 公开/公告号： | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 | |
| 浏览量： | 9 | 所属领域： | 半导体材料制造 碳化硅晶体生长技术 高温热处理工艺专利转让搜索 |
应用场景：第三代半导体器件衬底制备;高压功率模块封装;电动汽车逆变器散热基板;光伏逆变器高温环境应用
摘 要：本发明公开了一种新的碳化硅生产工艺，包括以下步骤：S1：将碳源和氯化钠放置于合成反应容器底部，再次除去部分杂质；S2：将预处理后的硅源，放置于提纯容器底部，并分步骤逐渐升温至2250℃，除去低沸点杂质；S3：在步骤S2的提纯容器底部通入惰性气体，进一步除去低沸点杂质，之后进入合成反应器，进入合成反应器的气相硅将合成反应器中碳源温度逐渐加热，反应时间10~20h，得到碳化硅粗品；S4：将步骤S3得到的碳化硅粗品提纯后，纯度＞99.999%。本发明的制备方法简单，成本低廉，减少CO2排放量，可生产出更高纯度的碳化硅，制备的碳化硅纯度大于99.993%，用于电子产品和芯片等领域。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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