发明专利 已授权

一种基于光谱干涉装置的测量系统

📄 申请号:CN201710259114.1 📄 发布日:2026/08/19

著录项目信息

申请日
2017-04-19
公开号
CN107121077A
公开日
2017-09-01
申请人
张家港市欧微自动化研发有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

所属领域

应用场景

工业检测, 精密计量, 半导体制造, 光学元件检测, 科研实验

摘要

本发明涉及一种基于光谱干涉装置的测量系统,主要解决现有技术中存在的测量精度不足的技术问题,本发明通过采用所述测量系统包括光源,与光源依次连接的扩束准直透镜、起偏器、检偏器、自聚焦透镜、光谱仪及数据处理单元;待测双折射晶体连接于所述起偏器与检偏器之间;所述起偏器用于将经扩束准直透镜输出的平行光起偏为线偏振光;所述起偏器(的偏振轴与待测双折射晶体的任意偏振轴有夹角θ;检偏器与待测双折射晶体的任意偏振轴夹角为45度的技术方案,较好的解决了该问题,可用于双折射晶体厚度测量。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20190927
✅ 授权
20190906
⏳ 专利申请权的转移 :
20170926
?? 实质审查的生效 :
20170901
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:7 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 已报项目

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