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摘 要:本发明属于难熔金属表面激光熔覆技术领域,具体涉及一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi2涂层的方法。首先在钼合金表面溅射20~30μm厚度的Si薄层,然后再预置硅化物合金粉末,通过激光扫描将钼合金、溅射Si薄层、预置硅化物合金粉末结合起来,可得到力学性能优异、且与钼合金结合良好的MoSi2涂层。本发明制备的钼合金表面MoSi2涂层由于采用磁控溅射Si薄层,随后通过激光熔覆工艺可以形成Mo‑Si元素过渡层,能够改善钼合金和MoSi2涂层之间的结合强度。另一方面,采用激光熔覆工艺在溅射Si薄层的钼合金表面制备硅化物涂层,涂层组织均匀致密、结合良好,且由于多元合金化作用,可以提高涂层的服役性能。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201811212909.8 | 专利名称: | 一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi2涂层的方法 |
申请日: | 2018-10-18 | 申请/专利权人 | 江苏理工学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省常州市中吴大道1801号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C24/10搜分类 激光搜索 |
公开/公告日: | 2020-07-28 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN109234728B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |