发明专利 已授权

通过电化学抛光在纯铝表面形成纳米级多孔膜层的方法

📄 申请号:CN201510752337.2 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2013-05-17
公开号
CN105220217B
公开日
2017-07-11
申请人
江苏理工学院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

铝基功能材料, 微纳器件制造, 散热材料, 催化载体, 过滤与分离膜

摘要

本发明公开了一种在纯铝表面形成纳米级多孔膜层的方法,具有以下步骤:①对纯铝表面进行预处理;②将步骤①预处理后的纯铝作为阳极且与作为阴极的铂电极一起放入电化学抛光溶液中,并使阴阳极间距为50mm~70mm,然后在环境温度下,在80mA/cm2~160mA/cm2的电流密度下进行电化学抛光10s~90s,从而在纯铝表面形成纳米级多孔膜层;所述的电化学抛光溶液由1,2‑丙二醇与高氯酸按照9∶1~2∶1的体积比组成;③对步骤②电化学抛光后的纯铝进行清洗和烘干。本发明通过电化学抛光在纯铝表面形成纳米级多孔膜层,大大缩短了多孔阳极氧化铝膜的生产周期,而且所得到的纳米级多孔膜层还具有范围大、高度有序等优点。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (C25F3_20)

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