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摘 要:本实用新型公开了一种自洁式化工反应釜,包括反应釜、冷凝管、底座、冷凝水口、耳座、封盖、进料口、水阀、温度计口、清洁装置、主轴、电机、转盘、滑槽、滑块、连接块、喷座、喷头、连接装置、转轴、搅拌器、套杆、卡块、卡盘、套筒、旋钮。本实用新型提高设置清洁装置,将清洁装置贯穿垂直安装在反应釜中部,用来对反应釜内壁残留的反应残渣进行清洗,同时与连接装置相配合使用,进一步控制搅拌器的摆动对反应釜内部进行强度清洁,从而解决了清洁装置操作麻烦、清洁面积不均匀、小部分残渣难以清理的问题,从而提高了清洁装置的清洁效果,省去了人工操作的步骤,大大增强了工作效率,延长了反应釜的使用寿命。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202420371251.X | 专利名称: | 一种自洁式化工反应釜 |
申请日: | 2024-02-28 | 申请/专利权人 | 上海上诺科技发展有限公司 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 上海市金山区金山第二工业区金山大道4588号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B01J19/18搜分类 化工机械 工反应搜索 |
公开/公告日: | 2024-11-12 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN221982416U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2024/11/12 | 授权 |