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摘 要:本实用新型公开了卧立反应室用稳固底座,解决了现有立卧一体式加工设备的底座支撑范围不可调节,从而使得底座适应性差的问题,包括:底座框架,用于卧立反应室的防护;所述底座框架包括:至少一组反应室承托部,所述反应室承托部用于承托并保护所述卧立反应室;所述反应室承托部包括:至少一组主承托座;辅助承托座,以及用于连接所述主承托座以及辅助承托座的承托调节组件;本申请中设置有承托调节组件,承托调节组件可以适应不同规格型号卧立反应室,且反应室承托部的支撑范围灵活可调,满足了不同环境下的使用需求。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202222909075.4 | 专利名称: | 卧立反应室用稳固底座 |
申请日: | 2022-10-31 | 申请/专利权人 | 骏全(厦门)新材料科技有限公司 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 福建省厦门市翔安区马巷镇巷南路804号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B29C37/00搜分类 实验室搜索 |
公开/公告日: | 2023-03-28 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN218748880U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |