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摘 要:本发明涉及一种制备铬掺杂单层二硫化钨二维晶体的方法,属于无机半导体纳米材料制备的技术领域,其包括以下步骤:以Cr、NaCl、WO3、S为原料,在多温区管式炉里面以Si/SiO2为基底,通过S单质对WO3及Cr同时进行硫化,共同参与成键,使Cr取代部分WS2单层二维晶体中W的位置,通过化学气相沉积的方式制备得到Cr掺杂单层WS2二维晶体。本发明所述的方法步骤简单、操作方便,合成速度快且成本低廉,制备得到的Cr掺杂单层WS2二维晶体结晶性好,化学及热力学性能稳定。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202011168522.4 | 专利名称: | 一种制备铬掺杂单层二硫化钨二维晶体的方法 |
申请日: | 2020-10-28 | 申请/专利权人 | 燕山大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 河北省秦皇岛市海港区河北大街438号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C01G41/00搜分类 硫化搜索 |
公开/公告日: | 2021-11-05 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN112174211B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |