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摘 要:本发明提供一种利用空白校正确定X射线背景强度的方法,包括以下步骤:利用电子探针通过波谱仪测试待测样品中待测元素的特征X射线的总强度IPEAK‑unk;选取空白标样,并利用电子探针通过波谱仪测试空白标样的待测元素特征X射线总强度IPEAK‑blk;测试原始标样中待测元素的特征X射线的净计数INET‑std;根据INET‑std和原始标样与空白标样中待测元素的含量计算空白标样中待测元素的特征X射线的净计数INET‑blk;根据INET‑blk、IPEAK‑blk、IPEAK‑unk计算待测样品中的待测元素的净计数INET‑unk;根据INET‑unk和INET‑std与原始标样中待测元素的含量计算待测样品中待测元素的含量Cunk。本发明提供的方法有效消除了背景强度对微量元素的含量的测试结果的影响。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010495016.X | 专利名称: | 一种利用空白校正确定X射线背景强度的方法 |
申请日: | 2020-06-03 | 申请/专利权人 | 中国地质大学(武汉) |
专利类型: | 发明 | 地址: | 湖北省武汉市洪山区鲁磨路388号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G01N23/2252搜分类 射线搜索 |
公开/公告日: | 2021-02-12 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN111551579B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |