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| 专利/申请号： | CN202111160623.1 | 专利名称： | 一种克服水分子干扰的离子液体基印迹光催化纳米反应器的制备方法及其应用 |
| 申请日： | 2021-09-30 | 申请/专利权人 | 云南旭众机械设备有限公司 |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | 云南省昆明市昆明经济技术开发区云大西路39号新兴产业孵化区C幢3楼301号 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | B01J31/02 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2021-05-07 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN213137919U | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 22 | 所属领域： | 其他专利转让搜索 |
摘 要：本发明属于环境材料合成技术领域，具体涉及一种克服水分子干扰的离子液体基印迹光催化纳米反应器的制备方法及其应用。具体步骤：首先制备离子液体IL；然后将P25、IL和LEV依次加到去离子水中，搅拌后，再加入MBA和ABVN；随后，将得到的反应溶液放入微波反应器中反应，反应后离心收集产物经洗涤，洗脱、真空干燥得到固体产物。本发明的材料以离子液体为功能单体，在水相介质中与LEV能达到更好的键合作用，克服水分子极性溶剂的干扰，使得所制备的离子液体基印迹光催化纳米反应器具有相对于基体材料高的光催化活性提升倍数。同时，对比其他印迹光催化剂具有较高的选择性，能高选择性地吸附并降解盐酸左氧氟沙星。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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