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摘 要:本发明公开一种具有射线及中子综合屏蔽效果的钨硼层状材料,属于屏蔽材料技术领域。该钨硼层状材料由钨或钨合金、渗硼层组成,其中渗硼层的厚度为38~45μm,硼以硼化物的形式存在于渗硼层中,钨合金为Ni、Cu、Nb、Co、Mo、Cr或C元素与钨元素组成的合金,其中钨质量百分比为85~99%。相比传统的钨及其合金材料,这种特殊的层状结构使钨硼复合材料对X射线,γ射线和中子均具有较为显著的屏蔽效果,同时具有强度高、硬度高、导电性好、耐腐蚀性优良等特点。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201710847494.0 | 专利名称: | 一种具有射线及中子综合屏蔽效果的钨硼层状材料 |
申请日: | 2017-09-19 | 申请/专利权人 | 昆明理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 云南省昆明市五华区学府路253号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C8/68搜分类 果 射线 硼 港口 层状材料搜索 |
公开/公告日: | 2018-03-16 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN107805777A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2020/05/15 | 授权 | |
2018/04/10 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): C23C 8/68 专利申请号: 201710847494.0 申请日: 2017.09.19 |
2018/03/16 | 公开 |