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摘 要:本发明公开了一种二维MXene材料的处理方法、产品及一种气敏传感器,所述处理方法包括如下步骤:将以含氟化合物的溶剂为刻蚀溶剂,采用液相刻蚀法得到的二维MXene材料置于有机溶剂中,超声处理,之后进行干燥;对干燥后的MXene材料进行微波氧等离子体处理,得到所述二维MXene材料。通过对二维MXene材料进行微波氧等离子体处理,一方面有效提高了材料的比表面积;另一方面使得材料具有更多的氧官能团,为材料在进行气敏性能测试时提供更多的氧活性位点,从而提高气敏性能。本发明所得的MXene气敏材料具有高的选择性及稳定性,在25℃下,对100ppm的乙醇气体响应值可达到22.47%。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010386489.6 | 专利名称: | 一种二维MXene材料的处理方法、产品及一种气敏传感器 |
申请日: | 2020-05-09 | 申请/专利权人 | 昆明理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 云南省昆明市五华区学府路253号昆明理工大学基础楼 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G01N27/12搜分类 传感器 气搜索 |
公开/公告日: | 2021-07-16 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN111521649B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |