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摘 要:本发明提供一种对沉积金刚石膜的基底预处理时的控制压力装置,包括固定机构、升降机构和调压机构;固定机构包括第一立柱,第一立柱顶部侧壁固接有第一固定块,第一固定块下方设置有第二固定块,第二固定块与第一立柱滑接;第二固定块上固接有若干调平部,若干调平部呈周向等距分布;第一立柱内固接有第一电机,第一电机与第二固定块传动连接;升降机构包括固接在第一立柱顶端的第二立柱,第二立柱远离第一固定块的一侧滑接有移动架,调压机构固接在移动架上;移动架上固接有第二电机,第二电机与第二立柱传动连接。使基底在与抛光机的摩擦过程中受到稳定均匀而持续的作用力,基底的每部分受到均匀处理大大提高了基底的预处理成功率。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110863732.3 | 专利名称: | 一种对沉积金刚石膜的基底预处理时的控制压力装置 |
申请日: | 2021-07-29 | 申请/专利权人 | 昆明理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 云南省昆明市五华区学府路253号昆明理工大学基础楼 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B24B29/02搜分类 底搜索 |
公开/公告日: | 2022-11-25 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN113524001B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |