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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN202111503874.5 | 专利名称: | 近室温红外成像用稀土锰氧化物薄膜制备方法 |
申请日: | 2021-12-09 | 申请/专利权人 | 昆明理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 云南省昆明市一二一大街文昌路68号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C18/12分类检索 稀土材料 红外成像 塑料 锰 港口 锰氧化物专利转让搜索 |
公开/公告日: | 2023-01-24 | 转让价格: | 面议 【平台担保交易】 |
公开/公告号: | CN114150296B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要:本发明公开了近室温红外成像用稀土锰氧化物薄膜制备方法,具体包括如下步骤:基底高温退火、基底还原、基底活化、前驱体配置、前驱体净化、基底旋涂、基底热处理、薄膜烧结;本发明的方法在保证稀土锰氧化物薄膜组分函数高度吻合设计值的同时,制备出大面积、高平整度、在近室温区范围具有高值TCR的稀土锰氧化物薄膜,强化其作为红外探测成像器件的性能基础,进一步拓宽红外探测器敏感材料的选择范围。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |