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摘 要:本发明公开了一种基于激光直写金属掺杂Sb2Te薄膜的自干涉曝光方法,该方法包括以下步骤:S1、在基片上沉积金属掺杂Sb2Te薄膜;S2、对所述薄膜进行曝光,基于激光诱导薄膜表面产生等离子体与激光间的干涉在薄膜表面产生晶化,得到亚波长尺寸的周期性表面结构。本发明利用金属掺杂Sb2Te薄膜在激光辐射下产生等离子体并与激光干涉形成周期性光场导致薄膜晶化从而产生周期性表面结构,无需超强超短激光脉冲即可得到等离子体,且能实现自干涉曝光得到亚波长尺寸的光栅结构,可用于亚波长尺寸的光电子器件制造。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010245207.0 | 专利名称: | 基于激光直写金属掺杂Sb2Te薄膜的自干涉曝光方法 |
申请日: | 2020-03-31 | 申请/专利权人 | 苏州科技大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省苏州市高新区科锐路1号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G03F7/20搜分类 塑料 干搜索 |
公开/公告日: | 2023-03-14 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN111399343B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |