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专利详情
发明专利
已授权
一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅
📄 申请号:CN201911249960.0
📄 发布日:2026/04/21
著录项目信息
申请日
2019-12-09
公开号
CN110927833B
公开日
2020-09-11
申请人
江苏创芯海微科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
G02B1_118
IPC 分类号
G02B1_118
技术画像
所属领域
光学薄膜
光学薄膜
微纳光学
衍射光栅
应用场景
光学镜头, 激光器件, 太阳能电池, 显示器件
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摘要
本发明公开了一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅。本发明的宽光谱抗反射增透结构中包括:衬底,还包括设置于所述衬底至少一侧表面的若干锥状抗反射结构,锥状抗反射结构的底部横向尺寸为20~150nm,分布密度为3~20根/um2,若干锥状抗反射结构在不同高度范围内的数量百分比分布为:100nm以下:0%~5%,100nm~150nm:50%~60%,150nm~200nm:25%~35%,200nm~260nm:10%~20%。本发明产品在更宽的波长范围内具有更优异的抗反射性能。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20201215
?? 专利权的转移 :
20200911
✅ 授权
20200421
?? 实质审查的生效 :
20200327
📄 公开
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📋 交易方式:
委托待转让
📌 交易状态:
在售
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📋 项目申报:
未申报
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