发明专利 已授权

一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅

📄 申请号:CN201911249960.0 📄 发布日:2026/04/21

著录项目信息

申请日
2019-12-09
公开号
CN110927833B
公开日
2020-09-11
申请人
江苏创芯海微科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光学镜头, 激光器件, 太阳能电池, 显示器件

摘要

本发明公开了一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅。本发明的宽光谱抗反射增透结构中包括:衬底,还包括设置于所述衬底至少一侧表面的若干锥状抗反射结构,锥状抗反射结构的底部横向尺寸为20~150nm,分布密度为3~20根/um2,若干锥状抗反射结构在不同高度范围内的数量百分比分布为:100nm以下:0%~5%,100nm~150nm:50%~60%,150nm~200nm:25%~35%,200nm~260nm:10%~20%。本发明产品在更宽的波长范围内具有更优异的抗反射性能。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20201215
?? 专利权的转移 :
20200911
✅ 授权
20200421
?? 实质审查的生效 :
20200327
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:84 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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