暗场显微技术 - 专利交易市场|柿子坊知识产权运营平台

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法律状态：全部已授权审中

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本发明公开了一种暗场显微大视场自动拼接成像方法，在获取图像的方法上面创新性的提出了采用二次成像的方法，第一次成像采用恒定光源，恒定曝光及光圈以获得背景均匀的子孔径图像，第二次成像自适应曝光，结合带通滤波器的理论推导，对第二次成像使用潜在目标检测分析，检测图像中的目标物并对其进行合理一致的拉伸，对两次成像融合构建新的背景和目标图像；通过图像算法自动拼接。本发明提出的二次成像方法，对于第一次成像能够获得背景均匀的子孔径图像，能够稳定的保证拼接时子孔径背景的均匀性和弱化拼接的缝隙，对于第二次成像能有效凸显不同尺寸的样品瑕疵，稳定且高效。

📄 2018107809458 📂 G06T3_40 👤 杭州电子科技大学 📅 2018-07-16

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一种暗场显微大视场自动拼接成像方法

2018107809458 · 杭州电子科技大学

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