专利名称：一种真空镀膜仪
申请号：2024228092893
转让价格：面议 收藏
法律状态：已下证
类型：实用新型
关键词：真空技术 表面处理设备 材料科学与工程 半导体制造工艺
相似专利
发布日：2025/09/15
应用场景：光学薄膜沉积;电子元件导电层制备;装饰性涂层加工;功能性纳米材料涂覆;科研实验中的薄膜生长研究
专利名称：一种基于真空技术的新材料发酵装置
申请号：2021201610448
转让价格：面议 收藏
法律状态：已下证
类型：实用新型
关键词：发酵 真空技术
相似专利
发布日：2025/07/23
摘要： 本实用新型提供了一种基于真空技术的新材料发酵装置，包括发酵舱、进料斗、出料口和主轴，发酵舱顶端左侧通过固定连接的进料斗可将物料排入其内部，发酵舱底部通过固定连接的出料口可将物料排出，发酵舱内部通过转动设置的主轴可将物料进行搅动，发酵舱的内部设置有发酵部件，发酵舱的内壁嵌入设置有内腔，且内腔中设置有控温部件，将加热产生的水雾，通过水雾风机加压后向发酵舱内喷入具有一定温度的水雾，且利用通风槽便于将水雾从上侧导入发酵舱左侧，便于水雾在发酵舱内部均匀分散，当具有一定温度的水雾流动使物料保持在一定的温度和湿度环境内发酵，便于提高该装置的发酵效果。
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