专利名称：一种高功率微波等离子体金刚石膜沉积装置      申请号：2021116136764     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：化学气相沉积 金刚石加工   相似专利 发布日：2025/05/14  
摘要： 本发明涉及一种高功率微波等离子体金刚石膜沉积装置，包括谐振腔主体、下圆柱体、同轴波导转换器、环形石英窗口、沉积平台、测温孔、测温仪、观察窗、进气口、出气口及水冷系统，其中谐振腔主体包括抛腔，抛腔是由一段抛物线绕所述谐振腔中轴线旋转一周得到的旋转体，且谐振腔内壁任意一点距离基片中心点的距离大于6/7λ。本发明可以使谐振腔内电场分布集中，激发等离子体位置稳定、密度高，有助于提高沉积金刚石膜的品质，同时可以减弱对腔室内壁的热辐射和避免腔室内壁沉积石墨及碳的化合物。

专利名称：化学气相沉积管式炉管      申请号：2021226240670     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：实用新型   关键词：化学化工 化学气相沉积   相似专利 发布日：2024/07/25  
摘要： 本实用新型涉及一种化学气相沉积管式炉管，涉及管件领域，包括外部组件和内部组件；所述外部组件包括第一定环和第一动环，所述第一动环与第一定环旋转连接，所述第一动环的内表面贴合有第一磁性件；所述内部组件包括第二动环和第二定环，所述第二动环与第二定环旋转连接，所述第二动环的外表面贴合有第二磁性件，所述第一磁性件与第二磁性件相对；所述第二定环设置有第一通孔，所述第二动环设置有第二通孔，所述第二动环可旋转使第一通孔与第二通孔相互导通或相互错开。本实用新型所述的一种化学气相沉积管式炉管，内部组件形成隔断，可以使管内腔导通或分隔，从而提高实验精度。

专利名称：一种非平行板式电容耦合等离子体化学气相沉积方法      申请号：2015100678298     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：化学化工 气 等离子体 化学气相沉积   相似专利 发布日：2023/10/17  
摘要： 本发明涉及一种薄膜沉积方法，特别是非平行板式电容耦合等离子体化学气相沉积方法，包括平面矩形螺旋状电感天线、低频电源发生器、阻抗匹配网络、柱状真空室、石英玻璃和衬底支架。本发明通过控制射频输入功率以及调谐匹配电容，实现了在真空室内的电容耦合稳定放电：等离子体密度较低，并且线圈两端的电位差建立的与衬底表面平行的径向静电场起主导作用，使得正离子的运动被约束在与衬底表面平行的方向。所以本发明从两方面即降低等离子体密度和约束正离子运动方向着手，可显著抑制化学气相沉积过程中正离子对薄膜表面的轰击，降低表面损伤。此系统可用于制备高效晶硅太阳能电池中必需的各种钝化层，如非晶硅和非晶氮化硅等。

专利名称：一种一步化学气相沉积无铅全无机钙钛矿薄膜的制备方法      申请号：2019108648852     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：化学化工 塑料 气 钙 港口 膜的制备方法 化学气相沉积   相似专利 发布日：2023/08/21  
摘要： 本发明公开了一种使用一步化学气象沉积法合成无铅全无机钙钛矿薄膜的方法，所述方法步骤如下：将溴化铯和溴化锡粉末按照相同摩尔比分别放置在石英舟中，将装有粉末的石英舟放置在双温区管式加热炉的上游高温区；控制温度，在氩气气氛中将粉末升华为汽态，并通过高纯载气氩气在低温区的硅片衬底上沉积；完成沉积后在低温区进行加热，获得质量的无铅全无机钙钛矿薄膜。本发明制备的无铅全无机钙钛矿薄膜具有晶体质量高、无杂质相和较大尺寸，同时具有工艺简单，可重复性好，尤其适用于批量制备基于钙钛矿薄膜的半导体器件。

专利名称：化学气相沉积法在FeS2表面生长MoS2的冷却系统      申请号：2018100901523     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：化学化工 化学气相沉积   相似专利 发布日：2025/04/28  
摘要： 本发明公开了一种化学气相沉积(CVD)法在FeS2表面生长MoS2的冷却系统，以解决CVD法在FeS2基底上生长MoS2过程中对FeS2实时冷却的技术问题。该冷却系统包括冷却器、第Ⅰ外管、第Ⅱ外管、第Ⅲ外管、进水管、回水管、两个管接头、连接法兰、两个连接套筒、两个支腿和FeS2承载架。该冷却系统可以在热反应炉的石英管内对FeS2进行降温冷却，且具有冷却温度可调节、成本低、易于安装等优点。

专利名称：一种用于制备新材料的化学气相沉积装置      申请号：201810678354X     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：化学化工 化学气相沉积   相似专利 发布日：2024/10/10  
摘要： 本发明涉及一种用于制备新材料的化学气相沉积装置，包括底座、导气机构、沉积管、夹持机构、种棒、旋转机构和两个加热机构，导气机构包括进气管、导气室和导气管，导气室内设有转轴、转盘、第一电机、驱动块、调节组件和两个扇叶，加热机构包括滑板、移动组件、氢氧焰喷灯、竖板、顶板、X射线发射器和X射线接收器，该用于制备新材料的化学气相沉积装置通过导气机构调节通入反应气体的用量，使装置随着运行时间的增加减小通入气体量，保证沉积反应的同时降低了设备生产成本，不仅如此，通过加热机构在沉积管的下方移动并进行沉积状况的检测，根据薄膜的附着状况控制滑板的移动，使得薄膜均匀沉积在种棒表面，提高了新材料的生产质量。