本发明公开了一种本发明公开了一种可见光双向吸收体结构。该吸收体结构制备步骤如下:(1)利用纳米加工技术在基底材料上制备二维纳米阵列单元,纳米结构单元周期为100‑200 nm,纳米结构单元底部宽度与周期的比值小于0.4,纳米结构单元的高度与单元底部宽度的比值大于1.5;(2)在二维纳米结构单元上蒸镀或溅射一层厚度为5‑20nm的金属层;(3)在上述金属层上蒸镀或溅射一层厚度为5‑20 nm的介质层。本发明实现了可见光的双向近完美吸收,具有结构简单、材料消耗少、广角的特性,在光电探测器、及隐身伪装等领域具有广泛的应用前景。
📄 2015109154029
📂 B81B1_00
👤 淮阴工学院
📅 2015-12-14