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  • 专利名称:一种陶瓷制品加工用抛光机      申请号:2022111775465     转让价格:面议  收藏
    法律状态:已下证   类型:发明   关键词:陶瓷抛光   相似专利 发布日:2025/03/18  
    摘要: 本发明涉及抛光技术领域,公开了一种陶瓷制品加工用抛光机,包括支撑梁、夹持机构和抛光机构;夹持机构,包括滑动连接于支撑梁一侧的第一滑动座,第一滑动座上设有夹持头;抛光机构,包括垂直设置于支撑梁中部两侧的导向杆,导向杆的中部滑动连接第三滑动座,第三滑动座与支撑梁之间设有改变第三滑动座滑动阻力的弹性组件,第三滑动座上设有第一支撑轴。本发明适用于一种陶瓷制品加工用抛光机,通过设置顶出组件使得第三滑动座移动一定距离之后就会带动第二滑动座移动,从而使得第三锥齿轮和第四锥齿轮脱开导致打磨带停转,从而使得本抛光机可以设定抛光时的最大压力,超过最大压力之后打磨带就会停转实现对于陶瓷制品的保护效果。
  • 专利名称:一种陶瓷表面抛光机      申请号:2023203225995     转让价格:面议  收藏
    法律状态:已下证   类型:实用新型   关键词:陶瓷抛光   相似专利 发布日:2024/12/16  
    摘要: 本实用新型涉及陶瓷表面抛光机技术领域的一种陶瓷表面抛光机。一种陶瓷表面抛光机,包括底座,所述底座上表面设有防护罩,所述防护罩的底端外表面固定连接有衔接环,所述衔接环的上表面开设有多个第一螺纹孔,所述第一螺纹孔内插设有螺栓,所述底座的上表面开设有多个第二螺纹孔,所述第二螺纹孔与第一螺纹孔相对应,且通过螺栓螺纹连接。通过设置安装在底座上表面的防护罩和衔接环,可以有效地防挡机器高速运转对陶瓷表面进行抛光时所产生飞溅出来的水或者粉末,将水和粉末阻断在防护罩的内壁,避免飞溅到机器外部,防止污渍飞溅。
  • 专利名称:含陶瓷抛光泥浆的组合物及在制备陶瓷抛光泥浆双免砖上的应用      申请号:201510110082X     转让价格:面议  收藏
    法律状态:已下证   类型:发明   关键词:陶瓷 组合 陶瓷抛光   相似专利 发布日:2024/04/16  
    摘要: 本发明公开了一种含陶瓷抛光泥的组合物,该组合物干燥的陶瓷抛光泥浆粉末,石屑,活性激发剂。其中陶瓷抛光泥浆粉末的粒度为0.1~15μm,比表面积大于460m2/kg。石屑的最大颗粒粒径为10mm,以及10mm到5mm,5mm,1.25mm粒径的混合物。活性激发剂包括碱性激发材料和表面活性剂,其中,碱性激发材料包括熟料、磷渣、矿渣、磷石膏、明矾石、硅酸钠、生石灰中的一种或多种,表面活性剂包括萘磺酸盐甲醛缩合物、三乙醇胺、木质磺酸钙中的一种或多种。本发明将所述的含陶瓷抛光泥的组合物应用于制备陶瓷抛光泥浆双免砖。制得的双免砖为MU15等级以上,工艺免高温烧结、免蒸汽养护,成本小耗能低,无二次环境污染。
  • 专利名称:一种以陶瓷抛光废料为填料的树脂基摩擦材料及其制备方法      申请号:2015108241532     转让价格:面议  收藏
    法律状态:已下证   类型:发明   关键词:陶瓷 高分子材料 材料及其制备方法 陶瓷抛光   相似专利 发布日:2023/08/21  
    摘要: 本发明公开了一种以陶瓷抛光废料为填料的树脂基摩擦材料的制备方法,包括以下步骤:首先将陶瓷抛光废料球磨2~3h,然后过200目筛,以质量分数计,将54.7%~63.7%的过筛后的废料颗粒和36.3%~45.3%的短切碳纤维加入硅烷偶联剂水溶液中,充分混合后滤出、干燥,得到预处理混合料;然后以质量份数计,将20~26份的预处理混合料、56~64份的酚醛树脂、16~26份的摩擦性能调节剂充分混合得到摩擦材料混合料;最后将摩擦材料混合料装入预热升温至80~90℃的模具中,将模具在130~135℃的温度下,5~7MPa的压力下进行一次热压处理,泄压后在160~170℃的温度下,5~7MPa的压力下进行二次热压处理,最后经过退火即可。本发明可改进树脂基合成摩擦学性能,又能有效缓解陶瓷抛光废料应用处理难的问题。
  • 专利名称:一种采用化学抛光液和陶瓷抛光盘的氮化铝基片抛光方法      申请号:2017101607797     转让价格:面议  收藏
    法律状态:已下证   类型:发明   关键词:陶瓷 采 港口 陶瓷抛光   相似专利 发布日:2023/11/21  
    摘要: 本发明公开了一种采用化学抛光液和陶瓷抛光盘的氮化铝基片抛光方法,其特征包括:(1)制备陶瓷抛光盘,(2)配置碱性抛光液,(3)将氮化铝晶片用石蜡粘结在氧化铝基板上,放置于所制备的抛光盘上进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用铁氰化钾作为强氧化剂,使氮化铝的表面被氧化形成氧化膜,再利用陶瓷抛光盘对其表面进行磨削,去除表面氧化层,从而达到抛光的作用。本方法中的陶瓷抛光盘耐腐蚀,硬度高,韧性强,磨削效率高,抛光速率快。采用碱性抛光液,能有效避免加工设备腐蚀,使得加工性能稳定,同时保证得到的氮化铝表面光洁度高,损伤低。
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