专利名称：一种强吸收圆二色性的单层三折孔纳米薄膜及其制备方法      申请号：2018103673980     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：塑料 纳米薄膜 三 港口 圆二色性   相似专利 发布日：2023/10/17  
摘要： 本发明具体涉及一种强吸收圆二色性的单层三折孔纳米薄膜及其制备方法，该单层三折孔纳米薄膜由多个相同的纳米单元上下、左右组合构成，且呈单层手性结构，纳米单元的横截面为正方形，所述纳米单元上开设有三折孔，三折孔具有手性特征，且三折孔的长度方向与正方形的边长平行。该单层三折孔纳米薄膜的制备方法，包括甩胶后烘、曝光、显定影后烘、真空镀膜、溶胶后吹干步骤，比现有的三层、两层纳米薄膜的制备方法更简单，且该单层三折孔纳米薄膜实现强吸收圆二色性，且信号分布在可见光波段，利于信号的探测。

专利名称：一种调控圆二色性的双层纳米结构及其制备方法      申请号：2017114385520     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：调控 纳米 圆二色性   相似专利 发布日：2023/10/17  
摘要： 本发明涉及一种调控圆二色性的双层纳米结构及其制备方法，双层纳米结构是由多个结构相同的金纳米单元上下、左右组合构成的双层手性结构，金纳米单元包括上层结构和下层结构，下层结构由下棒组成，上层结构包括一金属棒和位于金属棒一侧的上棒，金属棒和上棒的夹角为90°，金属棒和下棒平行放置，下棒的一端与上棒靠近金属棒的一端异面垂直；该双层纳米结构的制备方法包括准备基底、涂光刻胶、涂胶后烘干、电子束曝光结构图形、显影、定影、定影后烘干、镀金、剥离PMMA光刻胶、吹干、镀SiO2中间层等步骤。本发明的双层纳米结构产生的圆二色性效果更佳，还可以实现动态调控该结构的圆二色性信号。

专利名称：一种可以产生圆二色性的微纳结构      申请号：2018114909770     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：圆二色性 微纳   相似专利 发布日：2025/04/10  
摘要： 本发明涉及微纳光学技术领域，具体涉及一种可以产生圆二色性的微纳结构，微纳结构由多个单元结构按照矩形周期阵列互相连接构成，每个单元结构包含一矩形空心金属环和一金属条，金属条一端连接于空心金属环矩形拐角或空心金属环短边非中点位置，金属条与空心金属环所在的平面具有一特征夹角α。在入射光的激励下，金属条与空心金属环连接处形成环流模式，在空心金属环和金属条上形成固定模式的磁偶极子和电偶极子，使得左旋偏振光照射时产生很大的耗散，右旋偏振光照射时耗散小，使得左旋偏振光和右旋偏振光所激发的电场产生很大的差异，从而产生强的圆二色性。