专利名称：一种改进光刻胶粘结性的结构及其方法      申请号：2019104463471     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：胶粘 改 港口 光刻 光刻胶   相似专利 发布日：2024/01/15  
摘要： 本发明公开了一种改进光刻胶粘结性的结构，包括：衬底；形成在衬底上的光刻胶固定结构，所述光刻胶固定结构具有特定尺寸的第一开口，所述第一开口从光刻胶固定结构的顶部延伸到衬底顶部；以及形成在衬底和光刻胶固定结构顶部的光刻胶层，所述光刻胶层填充所述第一开口并至少部分地覆盖所述第一开口两侧的光刻胶固定结构顶面。

专利名称：一种实现正负性转换的NSb2Te光刻胶制备及其光刻方法      申请号：2021104180287     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：胶 港口 光刻 光刻胶   相似专利 发布日：2023/10/23  
摘要： 本发明涉及一种实现正负性转换的NSb2Te光刻胶制备及其光刻方法，光刻胶制备方法以Sb2Te为靶材、以Ar为起辉气体、N2为掺杂气体，在基片上沉积得到NSb2Te光刻胶，控制Ar和N2的流量比，使NSb2Te光刻胶为正胶或负胶；光刻方法包括：S1：在基片上沉积一层NSb2Te光刻胶，控制NSb2Te光刻胶中氮元素的掺杂量，使NSb2Te光刻胶为正胶或者负胶；S2：利用激光直写光刻系统对所述NSb2Te光刻胶进行曝光；S3：利用反应离子刻蚀系统或酸/碱性显影剂对曝光后的所述NSb2Te光刻胶进行干法或湿法显影，得到具有微纳结构的光刻样品。本发明提供一种工艺简单、成本低廉、环境友好且能在同一显影剂中实现正负胶转换的光刻胶制备方法和光刻方法。

专利名称：一种基于PCDL型聚氨酯丙烯酸酯制备的光刻胶组合物      申请号：2015101293292     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：化工材料 胶 C P L CD 光刻 组合 光刻胶   相似专利 发布日：2023/10/17  
摘要： 本发明公开了一种基于PCDL型聚氨酯丙烯酸酯制备的光刻胶组合物，所述组合物的原料及其各原料的质量百分含量为：聚氨酯丙烯酸酯45‑60％，活性稀释剂10‑15％，颜料4‑6％，光引发剂3‑5％，溶剂20‑37％；在避光条件下，聚氨酯丙烯酸酯与光引发剂、溶剂、活性稀释剂以及颜料按比例混合，室温下磁力搅拌使其充分溶解，即得光致抗蚀剂。本发明组合物中PCDL型聚氨酯丙烯酸酯的玻璃化温度、硬度、较高，酸值可调，分子量较低，粘度小，以该低聚物配制的光致抗蚀剂膜稀碱液可显影，且显影时间短，图像分辨率较高。

专利名称：一种聚氨酯丙烯酸酯共聚物及其光刻胶组合物      申请号：2015101495307     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：化工材料 胶 港口 光刻 组合 光刻胶   相似专利 发布日：2023/10/17  
摘要： 本发明提供一种聚氨酯丙烯酸酯共聚物及其光刻胶组合物，属于光刻胶领域。本发明首先通过含羟基的丙烯酸酯单体与二异氰酸酯化合物反应，制得NCO封端的预聚物，然后用饱和一元醇进行封端得到末端含双键的聚氨酯丙烯酸酯单体；然后与丙烯酸酯类单体进行自由基共聚反应得到聚氨酯丙烯酸酯共聚物。环状二异腈酸酯的引入可以增加光刻胶的耐蚀刻性；丙烯酸或甲基丙烯酸的引入使共聚物具有酸值可调、碱液可溶的特点；引入其它刚性丙烯酸酯单体，从而提高共聚物的耐热性及硬度；引入聚氨酯丙烯酸酯与丙烯酸类单体，从而使共聚物具有优异的附着力；本发明树脂与活性稀释剂、溶剂、光引发剂、颜料混合制得光刻胶，可以得到综合性能良好、分辨率较高的图像，可以将其应用在光刻胶领域。

专利名称：一种基于RAFT聚合法制备248nm深紫外光刻胶成膜树脂      申请号：2015105776102     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：高分子材料 胶 R F 光刻 光刻胶   相似专利 发布日：2023/10/17  
摘要： 本发明公开了一种基于RAFT聚合法制备248nm深紫外光刻胶成膜树脂，属于深紫外光刻胶领域。该光刻胶成膜树脂主要是以2-(十二烷基三硫代碳酸酯基)-2-甲基丙酸为RAFT试剂，4-乙酰氧基苯乙烯、苯乙烯、丙烯酸叔丁酯和2-甲基-2-甲基丙烯酸金刚烷酯为共聚单体，在自由基引发剂的条件下，以丙二醇甲醚醋酸酯为反应溶剂进行溶液聚合，合成具有较低分子量分布的共聚物，再加入一定量的甲醇钠和甲醇进行醇解，得到在248nm出具有高的透明性的共聚物，最终应用在248nm光刻胶中。本发明制备简单，反应条件温和，所得共聚物分子量分布较窄，能较好的控制分子量大小，适用于248nm深紫外曝光。

专利名称：一种生物基成膜树脂及其制备的光刻胶      申请号：2017111640560     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：高分子材料 胶 港口 光刻 光刻胶   相似专利 发布日：2023/10/17  
摘要： 本发明公开了一种生物基成膜树脂及其制备的光刻胶，所述生物基成膜树脂由苯乙烯衍生物与胆酸衍生物通过自由基聚合反应、醇解反应制成；将所述生物基成膜树脂与光产酸剂、助剂、溶剂等混合，用于制备365nm及248nm光刻胶。本发明在常规的聚对羟基苯乙烯成膜树脂中引入了含天然产物胆酸的可聚合单体，形成一类新的改良的成膜树脂，这种新的成膜树脂可以增加光刻胶的紫外透明性，提高其光敏性能，且大的环状结构可以增大碳的致密性，减低聚合链的自由体积，提高耐热性能，增加其抗蚀刻能力；且大的侧链可以改善酸扩散问题，提高溶解反差，降低图像的边缘粗糙度。

专利名称：溶菌酶二维纳米薄膜作为光刻胶的应用      申请号：2015107244552     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：生物酶 胶 塑料 纳米薄膜 光刻 光刻胶   相似专利 发布日：2023/10/17  
摘要： 本发明公开了一种溶菌酶二维纳米薄膜作为光刻胶的应用。本发明以溶菌酶二维纳米薄膜作为光刻胶，其组分为从自然界能够广泛获取的天然生物分子溶菌酶，避免了传统光刻胶在人工合成时造成的环境污染，且溶菌酶二维纳米薄膜透明度较高，粗糙度低，厚度可控，不需要涂胶、烘焙等繁琐工艺，在制备溶菌酶二维纳米薄膜的过程中只需原位生长于基片表面或直接将制备好的溶菌酶二维纳米薄膜粘附在基片表面，易实现大面积制备，且其具有较好的紫外、电子束敏感度，可用紫外、电子束方式曝光，曝光之后仅需用水显影，对环境无污染，显影效果较好；其同时还具有良好的抗刻蚀性能，在刻蚀后可选用盐酸胍水溶液、醋酸水溶液、乙二酸水溶液去胶。

专利名称：基于石英晶体微天平评估光刻胶光刻效率的方法      申请号：2020108242201     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：微 微生物采样 光刻 光刻胶   相似专利 发布日：2024/01/23  
摘要： 本发明提供了一种基于石英晶体微天平评估光刻胶光刻效率的方法，首先将光刻胶通过QCM芯片，光刻胶黏附于芯片表面上；然后将附有光刻胶的芯片置于的透光模块中，选用照射光源对芯片表面的光刻胶进行曝光处理，同时采集QCM的信号的变化，利用信号发生变化的时刻与曝光处理之间的时间长度来确定光刻胶的敏感度；利用信号发生变化的时刻与信号变为恒定的时刻之间的时间长度来分析光刻胶的对比度。此测量方法简单便捷，可以对光刻胶的对比度以及敏感度做到实时动态评估。

专利名称：具有荧光效应的碳纳米点光刻胶及其成像方法      申请号：2017102886311     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：纳米材料 胶 港口 光刻 光刻胶   相似专利 发布日：2023/03/30  
摘要： 本发明公开了具有荧光效应的碳纳米点光刻胶及其成像方法，所述感光树脂为含糖聚合物，利用其在一定电子束曝光剂量范围内的可控碳化及自交联作用，实现具有纳米尺度精确定位的碳纳米点制备，在特定波长光照下具有荧光特性，实现荧光显影及其他应用。水是本专利中唯一使用的溶剂，具有绿色环保的特点，同时可在任意指定位置形成具有任意纳米图案的荧光碳纳米点，一步解决荧光粒子制备与纳米尺度精确定位两个问题，在半导体制造以及生物领域具广泛的应用前景。

专利名称：一种光刻胶旋转涂覆装置     申请号：2021200859400     转让价格：面议  收藏
法律状态：授权未缴费   类型：实用新型   关键词：胶 旋转 光刻 光刻胶   相似专利 发布日：2021/08/10