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本发明提供一种具有致密性和耐刻蚀性Y2O3薄膜的制备方法,包括以下步骤:S1、将衬底清洗,吹干,置于UV光清洗机中进行活化处理;S2、将步骤S1中衬底置于磁控溅射镀膜机内,边抽真空边加热,达到本底真空后通入氩气,对Y2O3靶材进行预溅射,预溅射完成后打开挡板,调节腔体气压,正式溅射开始,溅射完毕后取出衬底;S3、将步骤S2中衬底在800~1000℃条件下进行真空退火,退火过程中持续通入O2,退火完成后在真空环境下自然降温,即完成Y2O3薄膜的制备。本发明制备的Y2O3薄膜具有致密性和耐刻蚀性,可以应用于刻蚀设备,提高设备使用寿命的同时还可提升设备性能。
📄 2024109971688 📂 C23C14_35 👤 武汉麦韦光学科技有限公司 📅 2024-07-24
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发明 已授权

一种具有致密性和耐刻蚀性Y2O3薄膜的制备方法及其应用

2024109971688 · 武汉麦韦光学科技有限公司
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🔋 高能量密度固态电解质材料与制备工艺
预算:¥50-100万截止:2026-08-30发布方:××新能源科技响应:8人

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固态锂电池电解质专利包

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CRISPR基因编辑技术

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SiC功率器件工艺专利

转让方:××半导体有限公司
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钙钛矿光伏组件技术

转让方:××科技公司
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交易金额:¥50万/年