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本实用新型涉及一种半导体刻蚀设备，包括腔室，过滤器和风机，所述腔室包括主体和上盖，上盖设置在主体上，所述过滤器一端与主体枢轴连接，另一端与主体可拆卸连接，过滤器包括第一辊筒，第二辊筒和过滤件，过滤件两端缠绕在第一辊筒和第二辊筒上，所述第一辊筒与电机连接，所述风机设置在上盖中，上盖设有进风口和出风口，进风口设置在上盖上方，出风口设置在上盖下方，所述过滤件设置在出风口中。本实用新型的一种半导体刻蚀设备能够通过自动更换过滤件，延长过滤器的更换时间，从而提升设备的利用效率。

本实用新型涉及半导体制造技术领域，公开了用于硅的刻蚀设备，包括轨道、刻蚀箱和清理箱，轨道上安装有若干个行走车，行走车的侧壁竖直固定安装有电动丝杠模组，电动丝杠模组的滑台竖直固定安装有一级负压管道，一级负压管道水平连通安装有若干个二级负压管道，二级负压管道通过转动接头连通安装有三级负压管道，三级负压管道的顶部连通安装有负压吸盘；一级负压管道的侧壁通过轴承座转动安装有转轴，一级负压管道的侧壁固定安装有减速电机，减速电机与转轴的一端联接，每个三级负压管道和转轴之间安装有传动结构；清理箱设置有清理装置。本实用新型能够提升晶圆运输的灵活性、提升晶圆夹持的数量和便利性、提升刻蚀效率和质量、提升清理效果。

本实用新型提供一种传送装置的干法刻蚀机。所述传送装置的干法刻蚀机包括：干法刻蚀机本体，所述干法刻蚀机本体包括排气管；安装板，所述安装板设置在所述干法刻蚀机本体的一侧外壁上，所述安装板上设置有过滤箱，所述过滤箱内设置有过滤器，所述安装板上设置有吸附箱，所述吸附箱内设置有吸附器，所述安装板上设置有反应箱；两个风机，两个所述风机分别设置在所述吸附箱内和所述吸附箱的一侧外壁上，两个所述风机的进风端上均设置有连接管。本实用新型提供的传送装置的干法刻蚀机可以对使用过程中产生的废气进行多重步骤处理，有效的提高废气处理的效果。