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2 件在售专利
本发明涉及离子束技术领域,具体涉及一种利用原位溅射结合离子束刻蚀的抛光装置及抛光方法。其包括传递室、刻蚀室、溅射沉积室以及设于传递室与刻蚀室,刻蚀室与溅射沉积室之间的插板阀,传递室、刻蚀室和溅射沉积室内设有三者之间传送工件的工件传送装置。以及应用此设备发明的一种抛光方法,其流程为:首先在传递室装载工件,其次在刻蚀室对工件离子束清洗,再次在溅射沉积室对工件溅射沉积一层薄膜层(牺牲层),进而在刻蚀室对工件进行离子束修正抛光,最后通过传递室取出工件,实现光学元件的抛光。
📄 2018102979522 📂 C23C14_46 👤 西安工业大学 📅 2018-04-04
¥0.0
本申请涉及离子束加工的技术领域,尤其是涉及一种大口径光学元件的离子束加工装置,包括真空加工舱以及设置于所述真空加工舱内用于对光学元件进行离子束加工的离子源,所述离子源的发射端设置有用于吸附溅射材料的挡板,所述挡板上开设有供离子束通过的通孔,所述挡板表面粗糙度达到纳米量级,所述光学元件设置于所述真空加工舱内的预定位置,所述离子源位于所述光学元件上方且发射端朝向所述光学元件本申请具简化了离子束加工设备且有利于保证产品质量。
📄 2021218103667 📂 H01J37_08 👤 摩高光学科技(佛山)有限公司 📅 2021-08-04
已申报项目
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发明 已授权
实用新型 已授权

一种大口径光学元件的离子束加工装置

2021218103667 · 摩高光学科技(佛山)有限公司
已申报项目
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预算:¥50-100万截止:2026-08-30发布方:××新能源科技响应:8人

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转让方:××大学
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交易类型:转让
交易金额:¥1,200万

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转让方:××半导体有限公司
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交易类型:转让
交易金额:¥680万
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转让方:××科技公司
受让方:××能源集团
交易类型:开放许可
交易金额:¥50万/年