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专利名称:
一种集成有双吸收区的光电探测器及其制备方法
申请号:
2021116436364
转让价格:面议
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法律状态:已下证 类型:发明 关键词:
集成芯片
相似专利
发布日:2025/09/23
摘要: 本发明涉及集成芯片领域,公开了一种集成有双吸收区的光电探测器及其制备方法,形成于基底上水平方向依次设置的第一吸收有源区、第一光传输波导区、第二光传输波导区和第二吸收有源区;第一吸收有源区中,第一P+掺杂区与第一N+掺杂区之间通过所述第一本征I区电性连接;第二吸收有源区中,第二P+掺杂区与第二N+掺杂区之间通过第二本征I区电性连接;其中,第一N+掺杂区与第二N+掺杂区电性连接;第一P++掺杂区上设置有第一金属电极,第二P++掺杂区上设置有第二金属电极。本光电探测器具有两个不同的光吸收区,能够探测出高功率和多波段的光信号,响应度较高,光‑电响应带宽较大。
专利名称:
集成有双吸收区的光电探测器及其制备方法
申请号:
2021116477561
转让价格:面议
收藏
法律状态:已下证 类型:发明 关键词:
集成芯片
相似专利
发布日:2025/09/23
摘要: 本发明涉及集成芯片领域,公开了一种集成有双吸收区的光电探测器及其制备方法,包括自下而上设置的基底、第二吸收有源区、光传输波导区和第一吸收有源区;第一吸收有源区中横向依次设置第一P++掺杂区、第一P+掺杂区、第一本征I区、第一N+掺杂区以及第一N++掺杂区,第一P++掺杂区与第一金属电极电性连接;第二吸收有源区中横向依次设置第二P++掺杂区、第二P+掺杂区、第二本征I区、第二N+掺杂区以及第二N++掺杂区,第二P++掺杂区与第二金属电极电性连接;第一与第二N++掺杂区通过金属通孔电性连接。本光电探测器具有两个不同的光吸收区,能够探测出高功率和多波段的光信号,响应度较高,光‑电响应带宽较大。
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