纳米光刻 - 专利交易市场|柿子坊知识产权运营平台

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一种相变‑热分解型复合光刻胶的纳米光刻方法：在基片(1)上沉积一层相变薄膜(2)，在相变薄膜(2)上沉积一层热分解型薄膜(3)，得到相变‑热分解型复合光刻胶；利用激光直写光刻系统(4)对相变‑热分解型复合光刻胶进行曝光，相变薄膜受激光照射产生相变形成相变区，并释放相变潜热，相变潜热加热相变区(5)上方的热分解型薄膜并使其分解，从而在热分解型薄膜上直接形成纳米通孔(6)；利用反应离子刻蚀系统(7)刻蚀相变‑热分解型复合光刻胶，使纳米通孔(6)下方的相变薄膜被刻蚀，最终得到纳米结构。本发明提供了一种操作简单、成本低廉、加工速度快，光刻分辨率高的纳米光刻方法。

📄 2020103053909 📂 G03F7_09 👤 苏州科技大学 📅 2020-04-17

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一种相变-热分解型复合光刻胶的纳米光刻方法

2020103053909 · 苏州科技大学

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