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本发明提供了多参数自主调节的液膜剪切抛光装置，包括机座，以及抛光盘模块和工件夹持驱动模块；所述工件夹持驱动模块包括用于夹持工件的载物盘；所述载物盘的下侧设有温度传感器和压力传感器，所述抛光液槽的槽壁上设有PH传感器，所述抛光液槽上方设有PH调节模块，所述PH调节模块能够向抛光液槽中添加PH调节剂；抛光时，控制模块通过BP网络神经模型对当前抛光PH值、抛光温度及工件压力进行评估，再通过遗传优化算法寻找最优抛光参数，最后对抛光参数进行自主调节。本发明还提供了多参数自主调节的液膜剪切抛光方法。本发明通过对抛光参数进行自主调节，有效消除加工过程中因抛光环境变化带来的不稳定性，实现高效、高质量、稳定的抛光加工。

本发明公开了陶瓷材质上芬顿辅助的旋转超声高效抛光法，通过在碳化硅材料上涂覆芬顿液，使得碳化硅在羟基自由基的作用下转化成更易去除的二氧化硅，再利用旋转超声工加工方法，高频振动的工具头冲击磨粒，通过高能磨粒对衬底材料的机械冲击、剪切、抛磨、锤击、加工液的空化现象和高速旋转的超硬陶瓷球体带动磨粒对衬底材料的多级研抛作用去除二氧化硅，暴露出底下的碳化硅，得到微半球凹模阵列本发明能够较快的在硬脆材质碳化硅工件上加工出优质几何性质的微半球凹模阵列。

一种超声振动与常压等离子喷射辅助变刚度气压砂轮随形抛光装置，包括等离子体发生装置、等离子喷射装置、变刚度气压砂轮随形抛光装置、CCD检测装置、多自由度机器人控制装置和超声振动辅助装置，等离子体发生装置与所述等离子喷射装置，等离子喷射装置的等离子喷射头位于工作台的抛光工位的上方；变刚度气压砂轮随形抛光装置安装在多自由度机器人控制装置的动作端，变刚度气压砂轮随形抛光装置的抛光头位于工作台的抛光工位上，超声振动辅助装置安装在所述变刚度气压砂轮随形抛光装置上，CCD检测装置的视角范围覆盖所述工作台的抛光工位。本发明实现大气压条件下脆硬材料表面的超精密抛光加工，并且做到加工效率高，加工效果好。

本发明公开了一种使用旋转电场控制液态金属抛光液对叶片抛光的装置，包括操作台、固定装置、叶片、第一永磁体、正电极、第二永磁体、负电极、液态金属抛光液、抛光腔体、操作台、电机、旋转机构、抛光容器、支撑架和工作平台；抛光容器内部设置有、抛光腔体，抛光腔体的上下两端分别安装有第一永磁体和第二永磁体，电机转动时驱动、正电极和负电极在抛光容器内部转动；本发明采用旋转机构在抛光槽内部产生旋转电场，使得在正电极和负电极之间产生的稳定电流场变化为旋转的无序电流场，利用无序电流场和电磁场的同时作用带动抛光液中的金属离子无需运动进而带动磨粒无序运动，磨粒对伸入抛光液中的叶片进行无序撞击，提高了抛光区的抛光效果。

本实用新型提供一种空压机阀板精抛设备，涉及打磨抛光技术领域，一种空压机阀板精抛设备，包括底座和设备主体，所述设备主体靠近底座的一端设置有圆盘固定机构，所述底座靠近圆盘固定机构的一端设置有若干移动槽，所述移动槽内设置有齿条，所述移动槽靠近和远离设备主体一端分别设置有固定槽，所述固定槽内设置有固定齿条，所述设备主体靠近圆盘固定机构的一端设置有旋转上料器，所述圆盘固定机构远离底座的一端和设备主体靠近圆盘固定机构的一端分别设置有精抛装置，两个所述精抛装置之间设置有阀板固定盘,减少更换的阀板固定盘所需要的时间，从而提高批量对空压机阀板进行精抛时的效率。

本实用新型涉及一种便于移动的精密抛光机械，包括抛光机，所述抛光机的正面固定有控制台，所述抛光机的底端固定有底箱，所述底箱的内部设有四个移动轮，所述底箱上设有用于带动移动轮垂直移动的调节机构；所述调节机构包括固定于底箱右端的电机，所述电机的输出轴固定有螺杆，所述调节机构还包括固定于底箱内腔顶壁左右两端的斜块，所述螺杆外表面的左右两端均螺纹连接有螺纹块，所述螺纹块的正面固定有导轨。该便于移动的精密抛光机械，通过在抛光机下方固定有底箱，并在底箱内设置调节机构，调节机构采用电动驱动的方式带动移动轮移出或移进底箱，从而方便移动抛光机，且移动完毕后，由底箱接触地面，提高放置稳定性。