专利名称：基于特征抽取与互异性融合的1bit压缩叠加CSI反馈方法      申请号：202111011688X     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：C IT   相似专利 发布日：2023/09/04  
摘要： 本发明公开了基于特征抽取与互异性融合的1bit压缩叠加CSI反馈方法，包括：根据上行CSI估计矢量的幅度，通过第一神经网络获得对应的下行CSI的学习幅度；根据基站得到的恢复反馈向量，利用专家知识进行CSI特征提取，恢复出下行CSI的特征幅度与特征角度；根据对所述下行CSI的特征幅度与下行CSI的学习幅度拼接得到的下行CSI拼接幅度，通过第二神经网络获得下行CSI的融合幅度；根据所述下行CSI的融合幅度与所述特征角度，恢复得到下行CSI重构矢量。与单比特CS叠加CSI反馈相比，本发明可根据上下行信道双向互异性恢复出单比特CS丢失的下行CSI幅度，极大的提高了CSI的重构精度，同时显著提高了CSI的重构效率。

专利名称：一种机电机柜内IT资产管理装置      申请号：2020220989826     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：实用新型   关键词：机电 柜 管理 IT   相似专利 发布日：2023/01/10  
摘要： 本实用新型公开了一种机电机柜内IT资产管理装置，包括：机柜、列头柜和内部管理网络，机柜共设置有七个，机柜内含有IT资产，每个IT资产均设置有标签，机柜设置在列头柜右侧，且等距排列，列头柜内设置有节点控制器，机柜内部安装有定位控制器，定位控制器安装在机柜的卡槽内，内部管理网络与节点控制器连接，内部管理网络还连接到互联网；节点控制器表面设置若干个接口，且节点控制器采用导线并穿过走线槽分别与定位控制器连接。本实用新型采取总线制，全部并发，一起读取数据一起上传数据，工作时间在10秒左右，读取数据及上传数据在6秒左右，整理数据大概需要4秒，数据整理和上传的速度较快，使用方便且可传输至App上方便用户调取。

专利名称：一种ITO热反射膜隔温玻璃门      申请号：2022206112886     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：实用新型   关键词：玻璃 门 IT   相似专利 发布日：2022/10/08  
摘要： 本实用新型公开了一种ITO热反射膜隔温玻璃门，包括钢化玻璃；所述钢化玻璃的正面设有ITO反射膜，钢化玻璃的表面顶端设有上边框，上边框的内部两侧设有L型连接块，所述钢化玻璃的正面底端设有下边框，下边框的顶端设有安装板，所述L型连接块的两端侧面等间距设有固定槽，所述上边框的内部位于L型连接块的表面设有连接槽，连接槽的内部位于固定槽对应处设有固定块，所述固定块具有一定弹性，所述安装板的表面中央位置设有安装外壳；本实用新型采用了固定块和L型连接块以及固定槽结构，实现对玻璃边框连接的同时提高连接稳定性，因此避免玻璃边框连接时出现晃动，使得玻璃边框连接更加牢固可靠，从而提高玻璃边框的使用效果。

专利名称：一种隔音性能好的IT0玻璃      申请号：2021228309882     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：实用新型   关键词：玻璃 IT   相似专利 发布日：2022/03/21  
摘要： 本实用新型公开了一种隔音性能好的IT0玻璃，包括玻璃板体、ITO导电板体、电路插座结构以及插头结构，两个所述ITO导电板体分别固定粘合在所述玻璃板体内部的两侧，所述玻璃板体内部位于两个所述ITO导电板体的内侧固定粘合有变色层，所述ITO导电板体内部外表面固定粘合有透明板结构，所述透明板结构内部固定粘合有隔音阻尼胶层，所述透明板结构内部外表面固定粘合有钢化膜层，所述电路插座结构固定设置在所述玻璃板体的外表面一侧，所述插头结构活动插接在所述电路插座结构的内部，本实用新型可改变玻璃板体的透明效果，增加玻璃板体的隔音效果，还能防止刮花，并且改变传统热熔胶固定的方式，保证电流地正常传输。

专利名称：ITO膜刻蚀液      申请号：2014101829375     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：半导体 新材料 IT   相似专利 发布日：2023/10/25  
摘要： 本发明公开了一种ITO膜刻蚀液，由0.4～0.6重量份的三氟甲基磺酸，2.5～2.8重量份的亚乙基二胺四甲叉膦酸钠，1.5～2重量份的1、2-乙二磺酸，6～7重量份的草酸以及88～90重量份的配制用水配制得到。上述原料中三氟甲基磺酸是最强的有机酸，通过适量比例的各种酸混合搭配提高刻蚀速率，亚乙基二胺四甲叉膦酸钠具有极强的络合作用，可有效稳定络合各金属离子，1、2-乙二磺酸和三氟甲基磺酸也能够与金属离子形成稳定的水溶性盐，有效解决金属离子易于与草酸沉淀形成残渣的问题，同时，该刻蚀液在刻蚀过程中不会产生气泡，大大提高蚀刻精度。