本申请公开了一种石墨坩埚和碳化硅单晶生长装置,涉及半导体技术领域。石墨坩埚包括坩埚本体,坩埚本体设有容纳腔,容纳腔用于容纳硅料,容纳腔具有沿第一方向相对的腔口和腔底,腔底朝向容纳腔内的一侧设有第一凹槽,第一凹槽用于汇集熔融硅料中的多晶颗粒。这样在使用本申请的石墨坩埚生成碳化硅单晶时,设置在容纳腔腔底的第一凹槽能够对流经的熔融硅料进行扰动,从而形成局部涡旋流动,进而能够汇集熔融硅料中的多晶颗粒,使得多晶颗粒更多地汇集在容纳腔底部,减少多晶颗粒流动至碳化硅单晶的生长界面,进而降低多晶颗粒对碳化硅单晶生成的影响,从而提高碳化硅单晶生成的质量。
📄 2025104023566
📂 C30B35_00
👤 西安交通大学
📅 2025-04-01